萬人撤離！美國陶氏化學總部被淹！

　　據美國媒體消息，(當地時間5月19日下午)，美國內陸密歇根州位于五大湖附近的一處名為edenvilled水壩突然潰決，猛烈下泄的洪水此后又連續沖垮了下游的smallwood大壩和sanfor大壩，隨后兇猛的洪水涌入密歇根州米德蘭市區。         潰壩的原因一般來說就是水壩建筑質量不高或者是降雨過多，從目前來看，這一次潰壩事件很可能和下雨太多有關——美國國家氣象局稱，這一次出現潰壩的河流在5月20日達到11.58米的最高水位，比有記錄以來的最高水位還高出約1.22米，如此高水位的運行很有可能是導致水壩潰壩的元兇，在洪災發生后，當地已有約1萬人撤離。         從目前來看，根據河道走向，從此次潰壩的最終流向將可能轉為東北流入五大湖中的休倫湖，接下來的不少城市還可能有洪災風險，由于美國目前正面臨新冠肺炎的肆虐，這次潰壩也讓不少籠罩于疫情陰云下的居民再添上一道陰霾。        但令一些學者擔心的是，此次河段下游是一家著名企業陶氏化學的總部，包含三家大型化工廠區，據當地政府估計，米徳蘭化工基地將有一半區域被淹沒，目前還暫時不清楚洪水可能對化工廠造成的影響，并且未來對下游和休倫湖生態的影響也還不能確定，一些專家提出了警告。
       陶氏是世界上最大的綜合性化工企業和有機硅巨頭企業，陶氏產品種類極多，涵蓋粘接、封裝、隔熱、絕緣等多類電子化學品。
       陶氏的半導體技術業務部主要服務于半導體市場的兩個核心領域：化學機械研磨和光刻技術。
       化學機械研磨產品：半導體技術業務部為半導體、硅片和存儲介質的研磨和平面化提供材料，包括：軟研磨墊和硬研磨墊、獨特的研磨漿料。
       光刻產品和材料：半導體技術業務部提供先進的光刻膠用在半導體晶圓上制作出電路圖形、抗反射涂層以改善成像、和電鍍化學品，包括：193納米浸入式光刻材料、193納米光刻膠、抗反射涂層(BARCs 、墊層材料(Underlayers 、表面涂層材料(Topcoats 、各種不同曝光光源用光刻膠，EUV、KrF(248nm)、ArF(193nm)、i-線、g-線光刻膠、193納米(ArF)和248納米(DUV)光源用抗反射涂層、顯影液和輔助化學品。